O alvo de sputtering refere-se à matéria-prima utilizada no processo de deposição por sputtering, que se refere ao processo de ejeção de átomos do alvo sólido devido ao bombardeio do alvo por partículas de alta energia, e tem como principal função depositar um filme fino na peça de trabalho. No final de fevereiro, entregamos os alvos de pulverização catódica de alumínio de titânio de alta qualidade produzidos por nós para nossos clientes alemães com segurança e rapidez por expresso internacional. Os clientes alemães sempre ficaram satisfeitos com os produtos de metal que fornecemos e estão dispostos a se comunicar conosco em nível técnico. As especificações de preço e tamanho dos produtos também atendem aos seus requisitos. Alvos de pulverização catódica de titânio e alumínio podem ser fornecidos com substratos de cobre ou processados em outros substratos de metal, se necessário.
O alvo de pulverização catódica de liga de alumínio e titânio é um alvo muito usado, que pode ser produzido pelo método de fundição e pelo método de prensagem isostática a quente. Tem alta qualidade, alta pureza, estrutura uniforme, longa vida útil, boa resistência à corrosão, alta condutividade térmica e preço competitivo e outras vantagens. Alvos de pulverização catódica de titânio e alumínio são mais comumente usados em revestimentos decorativos. Eles podem depositar filmes com boa dureza, alto brilho, resistência à corrosão, resistência à oxidação e resistência ao desbotamento. Eles são amplamente utilizados em revestimentos de ferramentas de hardware, revestimentos decorativos e revestimentos de telas planas. camada, processamento PVD e CVD, componentes semicondutores e várias máquinas de pulverização catódica e máquinas de revestimento iônico. A FANMETL também pode fornecerAlvo de pulverização de liga de silício de alumínio, Alvo de pulverização de níquele Alvo de pulverização catódica de cromo e outros produtos de alvo de pulverização catódica de metal.
