Alvo de pulverização catódica redonda de boro

Descrição do alvo de pulverização catódica redonda de boro

Boron Round Sputter Target é um material usado para preparação de filmes. É feito de materiais boretos por meio de metalurgia do pó (prensagem do pó metálico sob alta temperatura e alta pressão) ou fusão por arco a vácuo (derretido por aquecimento por arco em uma câmara de vácuo). Depois solidificado no alvo), possui excelentes propriedades como alto desempenho de processamento, alta estabilidade térmica, alta densidade, boa resistência à corrosão, alta resistência mecânica, alta qualidade de revestimento, resistência ao desgaste e longa vida útil. O alvo redondo de pulverização catódica de boro é usado principalmente para preparar vários filmes funcionais, como revestimentos duros, filmes magnéticos, filmes ópticos, filmes anti-reflexos, etc., para pulverização catódica em equipamentos eletrônicos, chips semicondutores, células solares, dispositivos ópticos e outros dispositivos de alta qualidade. decorações finais, suprimentos, etc. Se necessário, não hesite em contactar-nos por e-mail.

Especificações do alvo de pulverização catódica redonda de boro:

Imagens do alvo de pulverização catódica redonda de boro:

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