Alvos de pulverização de titânio e alumínio

Descrição dos alvos de titânio e alumínio

A tecnologia de pulverização catódica magnética é uma das tecnologias-chave para a preparação de materiais de película fina, e o alvo de pulverização catódica é o material-chave no processo de pulverização catódica. Alvos de pulverização de titânio e alumínio têm excelentes características de titânio metálico e alumínio metálico, como alta ductilidade, alta resistência ao desgaste, excelente condutividade elétrica e térmica, microestrutura ideal, boa durabilidade, desempenho de gravação e desempenho de processamento Bom, bom desempenho de ligação com o substrato, Os alvos de titânio e alumínio podem pulverizar revestimentos de nitreto duros e resistentes à oxidação (TiAlN) em brocas, fresas, pastilhas de corte intercambiáveis ​​e outras ferramentas e melhorar a taxa de avanço, desempenho de corte e vida útil das ferramentas de processamento. A Titanium Aluminium Sputter Targets também produz camadas adesivas e de cobertura em circuitos integrados, revestimentos decorativos para dispositivos eletrônicos (como mostradores para telefones celulares, monitores de tela plana ou relógios de luxo) e revestimentos de vidro para a indústria automotiva.

Especificações dos alvos de titânio e alumínio:

Imagens dos alvos de titânio e alumínio:

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