Alvo de pulverização catódica de liga de titânio TiAl
Descrição do alvo de pulverização catódica de liga de titânio TiAl
Alvo de pulverização catódica refere-se à matéria-prima usada no processo de deposição por pulverização catódica. Refere-se ao processo no qual átomos são ejetados do alvo sólido devido ao bombardeio de partículas de alta energia do alvo. Sua principal função é depositar uma película fina sobre o objeto. . O alvo de pulverização catódica de liga de titânio TiAl geralmente é feito pelo método de fabricação por fundição a vácuo. Possui uma série de excelentes propriedades de titânio e zircônio, como alta dureza, resistência a altas temperaturas, alta resistência mecânica, boa biofilicidade, excelente resistência à corrosão, forte resistência ao impacto do arco e retificação, durável, etc. ser amplamente utilizado na tecnologia de revestimento a vácuo usando PVD e CVD como processos principais. Pode revestir produtos eletrônicos, dispositivos eletrônicos, dispositivos de exibição blindados e dispositivos de circuito integrado para melhorar a qualidade de visualização e a vida útil. Ele também pode ser usado para revestir ferramentas de processamento, moldes e vidro para atender às necessidades da indústria global de fabricação de ferramentas de alto desempenho e vidro que economiza energia e é ecologicamente correto.
Especificações do alvo de pulverização catódica de liga de titânio TiAl:
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Nota |
TA1,TA2,TC4,TC10 |
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Técnica |
Prensagem isostática a quente, refinamento de grãos, sinterização, forjamento, recozimento |
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Pureza |
99.5-99.9% |
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Grossura |
3mm-40mm |
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Diâmetro Circular |
<= 1500 mm x 500 mm |
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Densidade |
4,5g/cm3 |
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Forma |
Discos |
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Superfície |
Polido |
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Padrão |
ASTM B385, GB |
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Certificação |
ISO 9001 |
Imagem do alvo de pulverização catódica de liga de titânio TiAl


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