Placa de apoio de cobre para alvos de pulverização catódica

Descrição da placa de apoio de cobre para alvos de pulverização catódica

O conjunto do alvo é composto por um desempenho de pulverização catódica composto do alvo, e o alvo por soldagem combinado com o backplane, os atuais materiais comuns do backplane são principalmente cobre livre de oxigênio, liga de cobre, molibdênio e tubo de aço inoxidável e outros materiais. O uso de placa de suporte de cobre para alvos de pulverização catódica pode ajudar a montagem do alvo a evitar deformações e rachaduras sob condições de calor, garantir a estabilidade da qualidade do filme e a eficiência de processamento e vida útil do alvo. A placa de suporte de cobre para alvos de pulverização catódica é frequentemente instalada por processo de brasagem, com boa condutividade elétrica e térmica, fácil processamento, alta resistência mecânica, excelente resistência a altas temperaturas, resistência ao desgaste, resistência à erosão por arco, longa vida útil, baixo custo. A placa de suporte de cobre para alvos de pulverização catódica é um componente chave da indústria de revestimento a vácuo ou da tecnologia de pulverização catódica magnetron, que pode ser usada para revestir produtos como dispositivos semicondutores, equipamentos eletrônicos e ferramentas de processamento.

Placa de apoio de cobre para especificações de alvos de pulverização catódica:

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