Alvo de pulverização de molibdênio

Descrição do alvo de pulverização de molibdênio

O alvo de pulverização de molibdênio é um material de pulverização muito ecológico. Sua pureza é geralmente superior a 99,95 por cento. Possui alta resistência, boa condutividade elétrica e térmica, baixo coeficiente de expansão térmica, estrutura interna uniforme, boa resistência à corrosão e durabilidade. Forte e outras características excelentes. A superfície dos alvos de pulverização de molibdênio pode ser considerada brilhante, polida e laminada, e a forma pode ser redonda, retangular e tubular. Os alvos de pulverização de molibdênio são frequentemente usados ​​na indústria de revestimento a vácuo, indústria aeroespacial, indústria automotiva marítima, indústria de instrumentação e indústria fotovoltaica.

O que é um alvo Sputtering?

Sputtering Targets desenvolvido no século 20 como uma técnica de deposição de filme fino, um processo antigo de mecanismo de deposição de vapor físico, mas também tem muitos usos na tecnologia e fabricação modernas. O processo começa colocando o substrato (ou outro item a ser revestido) em uma câmara de vácuo contendo dois ímãs. Depois que um gás controlado, como o argônio, é introduzido na câmara, os átomos são puxados do substrato com um ímã. Esses átomos então colidem uns com os outros em um estado gasoso, condensam em um plasma e secam em um filme fino em um substrato, formando um revestimento fino e durável adequado para revestimento em uma variedade de dispositivos. A pureza química do metal é a chave para a fabricação de alvos de pulverização catódica. Quanto maior a pureza, melhor o desempenho do filme depositado.

Alvo de pulverização de molibdênioEspecificações:

Imagens de alvo de pulverização de molibdênio:

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