Alvo de pulverização de cobre
Descrição e aplicação do alvo de pulverização de cobre
Os alvos de pulverização são uma classe especial de materiais que são usados principalmente nas indústrias de revestimento de filme fino e revestimento a vácuo. Copper Sputtering Target é um produto de cobre metálico de alta pureza processado por uma série de processos (como extrusão, trefilação, tratamento térmico e usinagem, etc.), e possui muitas propriedades excelentes, como alta pureza, baixo preço, eletricidade e condutividade térmica Forte, alta eficiência de produção e longa vida útil. O alvo de pulverização de cobre pode ser dividido em alvo de pulverização de cobre plano (redondo ou quadrado) e alvo de pulverização de cobre rotativo (geralmente tubular), e o padrão de tamanho é determinado de acordo com a aplicação real ou os requisitos do cliente. Alvos de pulverização de cobre é o material de pulverização preferido, adequado para pulverização DC bipolar, pulverização tripolar, pulverização quadrupolo, pulverização por feixe de íons ou pulverização por magnetron, etc., e pode ser usado para revestir filmes reflexivos, filmes condutores, filmes semicondutores, filmes decorativos, integrados circuitos e displays, etc.
Alvo de pulverização de cobreEspecificações:
Material | Cobre |
Pureza | 99,95 por cento |
Tamanho | Φ60 x 16mm |
Densidade | 8,9 g/cm3 |
Ponto de fusão | 1083 graus |
Superfície | Polido, Laminado, Limpo, Usinado, Terra, Lavagem Alcalina |
Tempo de entrega | 15-20 dias |
Padrão | ASTM, GB, ANSI |
Certificação | ISO 9001 |
Imagens de alvo de pulverização de cobre:


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