Peças de implantação iônica em molibdênio e tungstênio para semicondutores

oPeças de implantação iônica em molibdênio e tungstênioé um dispositivo chave na fabricação de circuitos integrados. Quando o feixe de íons é injetado na superfície do semicondutor e depositado, a concentração do portador e o tipo de condutividade mudam.

O implante iônico é amplamente utilizado em materiais semicondutores, metais, cerâmicas, polímeros e outros campos devido à sua excelente modificação de superfície. A implantação de íons é a chave para a fabricação de circuitos integrados (CIs) de grande escala. Os dispositivos de molibdênio são os principais dispositivos para suprimir e blindar os raios ionizantes no sistema de fonte de íons de implantadores de íons semicondutores.

Como a conversão da fonte de íons em íons de plasma durante a implantação de íons produz uma temperatura de trabalho de mais de 2000 graus, e a ejeção do feixe de íons também gera uma grande quantidade de energia cinética de íons, os metais típicos são rapidamente queimados e fundidos.

Aplicação: Partes do implantador de íons de molibdênio para semicondutores

1. A maioria das peças de molibdênio usadas para implantação de íons são usadas na indústria de semicondutores;

2. Produza dispositivos de implantação de íons de molibdênio com alta densidade, alta pureza, alta precisão e estrutura interna uniforme;

3. Nossas peças de implantação de íons de molibdênio são adequadas para injetor de feixe médio e injetor de feixe forte;

4. As peças de molibdênio para implantação iônica são produzidas de acordo com os desenhos do cliente.

5. Adequado para metalurgia, terras raras, máquinas e outras indústrias

Peças de implantação iônica em molibdênio e tungstênio Imagem:

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