Alvo de irídio
Pureza:Maior ou igual a 99,99%(4N)
Densidade:22,56g/cm³
Diâmetro:Φ Maior ou igual a 20mm
Grossura:1-15mm ou personalizado
Largura:10-150 mm
Comprimento:10-300 mm
Ponto de fusão:Redondo/Quadrado
Superfície:Polimento Ra menor ou igual a 0,8μm
Padrão:ASTM/GB
Quantidade mínima:2 unidades
Prazo de entrega:25-30 DIAS
Certificação:ISO 9001
Visão geral
Iridium Target é uma fonte de pulverização catódica feita de irídio metálico de alta-pureza, cujo núcleo é usado paradeposição física de vapor (PVD)para preparar filmes de metais preciosos de alta-temperatura, resistentes à corrosão-e altamente estáveis para aplicações em semicondutores, aeroespacial, processamento catalítico, instrumentos ópticos e outros campos. A FANMETAL tem mais de 20 anos de experiência na produção e exportação dealvos de metais nobres. Se você quiser saber o preço detalhado, entre em contato conosco por e-mail agora.
Recursos de irídio
Pureza ultra-alta
A pureza pode atingir 99,99% -99,999% (grau 4N-5N), e a quantidade total de impurezas é controlada abaixo de 10 ppm para garantir a estabilidade da transmissão de corrente e uniformidade do filme, e evitar defeitos na camada do filme causados por impurezas.
01
Estabilidade em altas temperaturas
Possui baixo coeficiente de expansão térmica, mantém a integridade estrutural em ambientes de temperaturas extremas, mantém baixa resistência térmica em altas temperaturas, evitando efetivamente o acúmulo e perda de calor.
02
resistência à corrosão
O irídio resiste a quase todos os ácidos, água régia, metais fundidos e silicatos. Uma densa película de óxido se forma na superfície, isolando efetivamente o meio corrosivo externo e protegendo o substrato da erosão. (Fonte)
03
Propriedades mecânicas
Alta densidade, alta resistência à tração, dureza Vickers maior ou igual a 1670HV, ainda mantendo alta dureza em altas temperaturas de 2.000 graus. E pode ser usado por muito tempo sem causar poluição ao meio ambiente.
04
Imagens de alvo de irídio


Aplicação de alvo de pulverização catódica de irídio




1. Fabricação de semicondutores e chips
O Iridium Sputtering Target é usado para criar camadas de barreira ultra{0}}finas que limitam o movimento de íons de cobre em substratos de silício durante a fabricação de semicondutores e chips; permitirá maior confiabilidade nas interconexões de chips; e pode ser pulverizado com espessura de 0,5-3 nm para satisfazer as necessidades de circuitos integrados de alta densidade com estruturas finas, melhorando assim o desempenho dos dispositivos.
2. Componentes eletrônicos e tecnologia de exibição
A fabricação de telas OLED flexíveis para criar camadas de eletrodos, a fabricação de microrrelés e materiais de contato de interruptores, a produção de componentes sensíveis para sensores de pressão e temperatura de alta{0}}precisão e os materiais de eletrodos primários usados em dispositivos de RF 5G são algumas das aplicações. Os alvos Iridium podem melhorar significativamente a eficácia da transmissão de sinais, aumentando a eficiência do sinal e a precisão das medições.
3. Instrumentos ópticos
Devido às suas propriedades reflexivas, o irídio é um excelente candidato para revestimentos de reflexão/reflexão de infravermelho médio- e distante-em detectores infravermelhos, óptica infravermelha (lentes) e produtos de imagem térmica. Além disso, devido à sua superfície muito lisa, os revestimentos de irídio podem fornecer proteção de superfície adicional para sistemas ópticos-de alta tecnologia expostos a condições ambientais adversas, a fim de aumentar a vida útil das lentes.
4. Aeroespacial
Os dispositivos de sensoriamento remoto infravermelho e de imagem infravermelha de satélites e sondas espaciais dependem de membranas de irídio para obter alta reflexão infravermelha e estabilidade do ambiente espacial. O irídio tem um alto ponto de fusão e excelente resistência à oxidação em altas temperaturas e pode ser usado como uma película protetora ou funcional para componentes de alta-temperatura e dispositivos-relacionados a motores.
5. Energia e catálise
O irídio serve como catalisador em conjuntos de eletrodos de membrana (MEAs) usados em células a combustível de hidrogênio. A atividade catalítica e a estabilidade química do Iridium aumentam a eficiência da eletrólise para gerar hidrogênio e reduzir a energia total consumida. Quando usado como material anódico, o Iridium proporciona uma vida útil ativa significativamente mais longa em aplicações de cloro-álcalis quando comparado a outros materiais.
Processamento
(1) Preparação da matéria-prima: Selecione mais de 99,99% de pó de irídio de alta-pureza para triagem e remoção de impurezas para garantir pureza uniforme do pó e tamanho de partícula.
(2) Moldagem por prensagem a frio: O pó de irídio é carregado em um molde e prensado a frio sob alta pressão para produzir uma placa verde porosa com uma certa resistência.
(3) Pré-sinterização: aquecimento a baixa temperatura em vácuo ou atmosfera protetora para retirar o gás do interior do corpo e consolidar preliminarmente.
(4) Prensagem a quente/prensagem isostática a quente: o corpo é densificado sob alta temperatura e pressão para obter tarugos de irídio de alta-densidade e baixa{2}}porosidade.
(5) Tratamento térmico: por meio de forjamento, laminação ou tratamento térmico, refinando os grãos, melhorando a uniformidade da estrutura e reduzindo as tensões internas.
(6) Usinagem de precisão: corte de fio, retificação e polimento são processados em peças em branco que atendem aos requisitos de tamanho, planicidade e rugosidade.
(7) Soldagem de placa traseira(opcional): ligue o material alvo à placa traseira de cobre, molibdênio e outras placas traseiras para garantir uma boa condutividade elétrica e térmica durante a pulverização catódica.
(8) Limpeza e teste de embalagens: limpeza ultrassônica para remover óleo e poeira, após passar nos testes de pureza, densidade, não{1}}destrutivos e outros testes, limpe a embalagem a vácuo.
notícias relacionadas

Alvo de pulverização catódica de irídio, alvo de irídio para a Alemanha
Recentemente, fornecemos um lote de alvos de irídio de alta-pureza para clientes alemães para ajudá-los a atualizar seus setores no setor de semicondutores. Temos capacidades de personalização de maior qualidade, prazos de entrega mais rápidos e preços mais competitivos do que os fornecedores anteriores de nossos clientes no Japão e nos Estados Unidos. Depois de receber os produtos, os clientes elogiaram nossos produtos e serviços e espera-se que haja uma-cooperação profunda. No futuro, a FANMETAL continuará a melhorar a tecnologia de produtos e os recursos de personalização, otimizar processos, reduzir custos, concentrar-se no layout de mercados-de alta qualidade na Europa e nos Estados Unidos, construir uma rede internacional completa de vendas e serviços e promover a "globalização" de alta-qualidade dos alvos nacionais.
perfil de companhia
XINXIANG FANMETAL TECH CO LTD está envolvida principalmente na produção e vendas de liga de tungstênio, liga de molibdênio, metal duro, alvo de pulverização catódica, liga de titânio, metal de zircônio, irídio e estelite. Os principais funcionários de produção, técnicos e vendas da FANMETAL têm de 10 a 30 anos de experiência, com processamento mecânico habilidoso, tratamento de superfície, bem como vendas de produtos acabados e soluções de atendimento ao cliente. Pode ajudar os clientes a resolver vários problemas encontrados durante a produção e é usado para melhorar a eficiência.

01
Garantia de qualidade e conformidade
Podemos alcançar a mais alta pureza exigida por nossos clientes e fornecer certificação ISO 9001, Certificado de Origem e relatórios MTC.
02
Equipamento Avançado
Estamos equipados com equipamentos de sinterização de última geração, centro de usinagem CNC e equipamentos de inspeção e análise. E os técnicos também possuem mais de 20 anos de experiência profissional.
03
Preços competitivos
Em comparação com outros fornecedores europeus e americanos, somos capazes de fornecer produtos de-alta qualidade e, ao mesmo tempo, reduzir os orçamentos dos clientes. E o frete também é muito-econômico.
04
Serviço personalizado
Podemos personalizar a produção de acordo com os desenhos do cliente e também podemos projetar e processar de acordo com as necessidades do cliente.
Perguntas frequentes
Perguntas frequentes
P: Qual é a maior pureza dos seus alvos de pulverização catódica de irídio? Como você pode provar isso?
R: A maior pureza dos nossos alvos de pulverização catódica de irídio (Ir) é 99,999% (5N). Fornecemos um certificado de análise (COA) de laboratórios-terceirizados, incluindo resultados de testes de GDMS (espectrometria de massa de descarga luminosa) e testes ICP, para verificar o conteúdo de impurezas e garantir a pureza do material.
P: Como o tamanho do grão afeta o desempenho da pulverização catódica? Como você controla o tamanho do grão em seu processo?
R: O tamanho de grão uniforme e fino-garante uma taxa de deposição estável, espessura de filme consistente, baixa geração de partículas e densidade de filme uniforme durante a pulverização catódica.
Controlamos com precisão o tamanho do grão por meio de pré-tratamento otimizado do pó, prensagem a quente a vácuo/sinterização HIP e tratamento térmico pós{0}}sinterização, obtendo microestrutura fina, uniforme e com poucos{1}}defeitos para garantir filmes finos de alta-qualidade.
P: Quais formatos e dimensões estão disponíveis para seus alvos de irídio?
R: Podemos personalizar alvos de pulverização catódica de irídio em vários formatos, incluindo alvos redondos, retangulares planos, rotativos, circulares, em formato de degrau-e perfis especiais personalizados.
As dimensões são personalizáveis de acordo com os desenhos do cliente, abrangendo tamanhos padrão e não{0}}padrão, desde pequenos alvos de laboratório até alvos de revestimento industrial em grande-escala.
P: Como melhorar a taxa de utilização de alvos de irídio durante a pulverização catódica?
R: Para aumentar a utilização da meta, recomendamos:
- Usando alvos cilíndricos rotativos de irídio em vez de alvos planares, o que pode melhorar significativamente a utilização.
- Adotando alvos de microestrutura uniformes e de alta-densidade para reduzir erosão e partículas anormais.
- Otimizando o projeto do campo magnético do magnetron e os parâmetros do processo de pulverização catódica para obter uma erosão mais uniforme.
- Também fornecemos alvos de irídio de alta -uniformidade para suportar maior utilização na produção real.
P: Qual é o seu custo de envio?
R: Isso depende principalmente do peso, volume, distância do destino e tamanho do pacote. Faremos o possível para nos comunicar com a empresa expressa para ajudá-lo a obter o custo de envio mais razoável.
P: Qual é o seu prazo de entrega?
R: Nosso método de envio é principalmente por via aérea ou marítima. Após a finalização do produto, usaremos caixas de madeira, plástico ou papelão para embalagens compactas e também colocaremos alguns materiais macios para evitar danos ao produto. Nós o entregaremos o mais rápido possível, dentro de 20 a 30 dias.
Descrição dos produtos

Tag: alvo de irídio, fornecedores, fabricantes, fábrica, personalizado, atacado, preço, cotação, para venda
Enviar inquérito


