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Alvo Planar de Zircônio 702
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Alvo Planar de Zircônio 702

Alvo Planar de Zircônio 702

Zircônio 702 Alvo Planar Descrição O zircônio é um elemento metálico com excelente resistência à corrosão, alto ponto de fusão e boas propriedades mecânicas, tornando-o útil em uma variedade de aplicações, incluindo reatores nucleares, aeroespaciais e implantes médicos. Alvo Planar de Zircônio 702...
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Product Details ofAlvo Planar de Zircônio 702

Descrição do alvo planar de zircônio 702

O zircônio é um elemento metálico com excelente resistência à corrosão, alto ponto de fusão e boas propriedades mecânicas, tornando-o útil em diversas aplicações, incluindo reatores nucleares, aeroespaciais e implantes médicos. O alvo planar de zircônio 702 pode ser feito usando tecnologia de fusão a vácuo ou prensagem isostática a quente, que pode produzir alta pureza, alta densidade e estrutura alvo uniforme para melhorar o desempenho e a vida útil de revestimentos de película fina. Zircônio 702 Planar Target pode produzir vapor de zircônio de alta pureza em processos como deposição física de vapor (PVD) para formar filmes uniformes e de alta qualidade e é usado na fabricação de filmes decorativos para semicondutores, dispositivos optoeletrônicos, revestimentos de ferramentas e necessidades diárias Desempenhou um papel importante. O Alvo Planar de Zircônio 702 fornecido por nossa empresa possui tais vantagens, não hesite em nos contatar por e-mail.

Especificação do alvo planar de zircônio 702:

Material

Zircônio

Pureza

R60702

Densidade

6,52g/cm3

Largura

20-500mm

Comprimento

100mm-3000mm

Grossura

>1milímetro

Superfície

Limpeza polida, brilhante, química, óxido preto, etc.

Padrão

ASTM B550,ASTM B551,GB

Certificação

ISO 9001

Imagens de alvo planar de zircônio 702

Zirconium Sputter Targets

Zirconium Sputtering Target

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