Alvo de cromo
Visão geral
A Alvo de cromoé um consumível importante usado para produzir filmes finos de cromo em tecnologias de deposição de filmes finos, como a pulverização de magnetron e a evaporação do feixe de elétrons. É fabricado principalmente com cromo metálico de alta pureza e é fabricado através de processos como metalurgia em pó, fusão e prensagem. It has a wide range of applications, including in semiconductor manufacturing (eg, Cu interconnect barrier layers and photolithography mask light-shielding layers), optical components (eg, infrared reflectors and decorative chrome plating), mechanical wear-resistant coatings (eg, bearings and mold surface protection), high-temperature resistant coatings in aerospace, and anti-corrosion coatings in the chemical industry, among others.
99,95% das características do alvo do cromo
Excelentes propriedades físicas
A dureza Mohs do cromo é de cerca de 9, perdendo apenas o diamante e alguns materiais de superaquecimento. A dureza do filme de cromo depositada pela pulverização pode atingir 600-1200 hv. O coeficiente de expansão térmica do cromo é altamente correspondente ao de metal, cerâmica, vidro e outros substratos.
Excelente estabilidade química
O cromo forma facilmente um denso filme de passivação CR2O2 no ar, que tem forte resistência à corrosão a ácidos (como ácido sulfúrico, ácido clorídrico), alcalses e soluções de sal. Por exemplo, o revestimento anticorrosão de partes metálicas dos cascos de navios e peles de aeronaves pode resistir à erosão de spray de sal e ambientes úmidos.
Boas propriedades ópticas e elétricas
A refletividade do cromo na banda de luz visível é de cerca de 60%-70%e, na banda infravermelha, pode atingir mais de 90%. Em particular, sua resistência ao contato com componentes de silício nos semicondutores é baixa, tornando -o adequado para a condutividade.
Materiais ideais para deposição de pulverização
Possui alta pureza e eficiência de pulverização maior que a maioria dos metais refratários (como tungstênio e molibdênio) e tem uma taxa de deposição estável. Ele pode preparar filmes finos uniformes em substratos de área grande e é adequado para produção em larga escala (como painéis de exibição e células solares).
Dimensão
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Nota |
CR009302, CR009500, CR009600, etc. |
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Pureza |
99.95%,99.9%,99.99%,99.999% |
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Grossura |
3mm -40 mm |
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Diâmetro |
50mm -160 mm |
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Ponto de fusão |
1857 grau |
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Densidade |
7.2g/cm3 |
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Forma |
Discos |
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Superfície |
Polimento, limpeza alcalina |
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Certificação |
ISO9001 |
Aplicativo
1. A indústria de semicondutores
Os filmes de cromo são frequentemente usados como materiais de deposição de filmes finos. Sua alta resistência ao calor e excelente estabilidade química aumentam significativamente o desempenho geral e a durabilidade dos dispositivos semicondutores.
2. Indústria fotovoltaica
Os materiais alvo de cromo podem ser usados para fabricar painéis solares. Ao melhorar a taxa de absorção de luz da bateria e reduzir a refletividade da superfície, eles podem aumentar a eficiência da conversão de energia solar, aumentando assim a capacidade de geração de energia dos painéis solares e diminuindo os custos de energia.
3. Revestimentos decorativos e protetores para automóveis e edifícios
Usado para a produção de filmes de metal decorativos. Esses filmes de cromo não apenas oferecem um brilho e cor atraentes, mas também fornecem proteção adicional anticorrosão e resistente ao desgaste, aumentando a aparência e a durabilidade dos produtos.
4. Filmes de deposição física e revestimentos funcionais para componentes, displays e ferramentas eletrônicos (método PVD).
5. O revestimento de cromo a vácuo é usado para peças de relógio, componentes de eletrodomésticos, cilindros hidráulicos, válvulas de deslizamento, vidro colorido e outras máquinas e equipamentos.
Aplicação de alvos de pulverização de cromo na fabricação de semicondutores
- Utilizado principalmente no processo de revestimento de pulverização, ele pode formar um filme de cromo de adesão uniforme, denso e forte, que pode melhorar significativamente o desempenho e a estabilidade dos dispositivos semicondutores.
- Os alvos de cromo CR são amplamente utilizados em filmes de deposição de circuitos integrados e são usados para caminhos e conexões condutores em dispositivos microeletrônicos, garantindo dissipação de calor eficiente e transmissão estável de camadas condutivas.
- O alvo redondo de cromo Cr também é usado na camada anti-gravidez, que pode proteger a estrutura do circuito contra danos durante o processo de gravação e melhorar a integridade do padrão de circuito
- Em certos dispositivos semicondutores específicos, como sensores ópticos e células solares, os filmes de alta qualidade cuspidos por alvos de cromo podem otimizar ainda mais o desempenho óptico e a vida útil do dispositivo.
Processo
- Metalurgia em pó: baixo custo, adequado para preparar alvos de tamanho grande e especial (como alvos curvos)
① Depois de purificar o pó de cromo, misture -o com uma pequena quantidade de ajuda a sinterização e homogeneize as partículas de pó através de moagem de esferas.
② Faça um espaço em branco através da prensagem isostática fria ou da pressão isostática quente para aumentar a densidade do alvo.
③ Sinter em um forno de atmosfera de proteção de hidrogênio por 2-4 horas para eliminar os poros através da sinterização por difusão e aumentar a densidade do material.
④ Corte e moa o espaço em branco sinterizado para reduzir a tolerância dimensional e polir a superfície após a limpeza ultrassônica para remover a camada de óxido de superfície.
- Método de fusão: alta densidade, maior pureza, mas processo complexo, alto custo, usado principalmente para alvos padrão redondos ou retangulares.
① Use derretimento de feixe de elétrons ou derretimento do arco a vácuo para derreter blocos de cromo de alta pureza.
② Faça o líquido de cromo fundido em lingotes e, em seguida, forja quente ou rolo quente.
③ Corte os lingotes de cromo forjado em tamanhos personalizados, remova a escala de óxido por moagem mecânica e reconecte.
④ Realize uma inspeção abrangente de qualidade antes da embalagem e remessa, como inspeção de aparência, precisão dimensional, teste de força, etc.
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Caso
Alvo de cromo, 99,95% de alvos de cromo CR para a Coréia
No início de janeiro, assinamos um contrato de cooperação comercial relacionado ao alvo com um cliente coreano. Os clientes pediram uma certa quantia de 99,95% dos alvos de cromo CR para serem usados em sua produção de equipamentos eletrônicos. Chegamos a um consenso com o cliente em tamanho, quantidade do produto, preço e tempo de entrega por e -mail.
Utilizamos um processo de metalurgia em pó de acordo com os requisitos do cliente no processamento. A metalurgia do pó é um método de pressionar o pó de cromo de alta pureza em forma e depois sinterizar. É adequado para preparar alvos com formas complexas. Para obter alvos com alta pureza, microestrutura densa e alto acabamento superficial, são necessários processos de tratamento de superfície, como detamentação e polimento. Finalmente, os testes de qualidade e desempenho devem ser realizados para atender aos padrões internacionais.
Qualificação do produto
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